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產品詳細頁
真空氣氛燒結爐

簡要描述:真空氣氛燒結爐廣泛用于電子陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、耐火材料、新材料、粉體材料、特種材料、建材等領域在惰性氣氛環境下進行燒結的生產及實驗。

  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-10-23
  • 訪  問  量:1267

產品介紹

品牌中奧菲達升溫速度(達到最高溫)40/min
內部尺寸300x200x200mm加熱方式硅碳棒
最大功率4000kW控溫精度1℃
最高溫度1300℃價格區間1萬-2萬
儀器種類箱式爐產地類別國產
應用領域醫療衛生,環保,化工,生物產業,綜合

產品簡介:
  真空氣氛爐又名無氧退火爐、真空氣氛燒結爐等 物體在通入定氣體的爐膛內進行燒結的方法。 不同的材料選擇適宜的氣氛燒結,有助于燒結過程,提高制品致密化程度、獲得良好的性能的制品。真空氣氛爐常用的有真空、氫、氧、氮和惰性氣體(如氬)等各種氣氛。例如透明氧化鋁陶瓷可用氫氣氛燒結,透明鐵電陶瓷宜用氧氣氛燒結,氮化物陶瓷如氮化鋁等宜用氮氣氛燒結。 有時為保護燒結調協也須在保護氣氛中操作。如鉬絲爐宜通氫,鎢絲爐宜在真空條件下工作。


氣氛爐用途:
  真空氣氛爐滿足于不同工藝實驗而殊制造,適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及切需快速升溫工藝要求的熱處理,是科研單位、高等院校、工礦企業理想的實驗和生產設備。


真空氣氛燒結爐原理:
  真空氣氛爐是真空技術與熱處理技術相結合的新型熱處理技術,真空熱處理所處的真空環境指的是低于個大氣壓的氣氛環境,包括低真空、中等真空、高真空和超高真空,真空熱處理實際也屬于氣氛控制熱處理。真空熱處理是指熱處理工藝的部和部分在真空狀態下進行的,真空熱處理可以實現幾乎所有的常規熱處理所能涉及的熱處理工藝,但熱處理質量大大提高。與常規熱處理相比,真空熱處理的同時,可實現無氧化、無脫碳、無滲碳,可去掉工件表面的磷屑,并有脫脂除氣等作用,從而達到表面光亮凈化的果。


真空氣氛爐結構:
  一 、電氣部分:電氣部分采用與氣氛爐爐體體化結構,整個電氣元件安裝在爐體底部的側,結構緊湊、占用空間小。溫控安裝在爐體側面板上,觀察直觀,調節方便,溫控儀具有PID調節功能,可自動跟蹤設定PID值,可任意設定測量分度密碼,同時具備補償功能,可使爐膛溫度與顯示值致。
  二、爐體部分:爐膛采用莫來石聚輕磚砌筑,爐膛內上下用碳化硅棚板,爐內溫度是加熱元件在加熱過程中經過碳化硅棚板傳導(暗火加熱),溫度更均勻。爐殼密封。為提高該氣氛爐的密封墊的使用壽命在爐門口設有循環水冷套以降低密封處的溫度。進氣設爐膛底部,經加熱腔預熱后分多處進入爐內,排氣經爐頂后部排出。爐內氣氛均勻,減小爐內溫差。也就是說,不論是電氣部分還是爐體部分,它們的結構性能都是互相力的,具有統性,也是實現箱式氣氛爐功能的基本!

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